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3D打印设备

3D打印设备
发布时间:2021-08-20 14:30:08
 一、产品介绍
nanoArch S130 2μm精度微纳3D打印系统由摩方精密自主研发的高精密微纳3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技术,是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。PμSL技术使用高精度紫外光刻投影系统,将需打印模型分层投影至树脂液面,快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂工业样件。该技术具有成型效率高、加工成本低等突出优势,被认为是目前非常具有前景的微尺度加工技术之一。
 
二、基本参数
光源:UV-LED(405nm)
打印材料:硬性树脂、耐高温树脂、韧性树脂、生物兼容性树脂等
光学精度:2μm
打印层厚:5-20μm
打印尺寸:
①模式一:3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)(单投影模式)
②模式二:38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)(拼接模式)
③模式三:50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)(重复阵列模式)
文件格式:STL
系统外形尺寸:1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)
重量:550kg
电气要求:200-240V AC,50/60HZ,3kW

三、应用领域
nanoArch S130 2μm精度微纳3D打印系统可广泛应用于力学超材料、生物医疗、微机械结构、微流控、三维复杂仿生结构等领域

四、企业简介
摩方精密(BMF,Boston Micro Fabrication)是全球微尺度3D打印技术及精密加工能力解决方案提供商。专注于精密器件免除模具一次成型能力的研发,提供制造复杂三维微纳结构技术解决方案,同时,可结合不同材料及工艺,实现终端产品高效、低成本批量化生成及销售。
了解更多:http://www.cqbmftec.com/Products-34659828.html
https://www.chem17.com/st443641/product_34659828.html